部分集成電路設計企業對于申請布圖設計登記能為企業帶來多少好處不是很了解，也擔心技術會因此泄密。筆者就集成電路布圖設計登記申請進行介紹。
根據布圖設計保護條例，布圖設計權利人享有的權利如下：
1. 對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分進行復制；
2. 將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業利用。
未經權利人許可的以下行為構成侵權：
1. 復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分的；
2. 為商業目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。
布圖設計專有權的保護范圍不包括制造行為，而且比專利的壟斷性保護力度要小，但申請保護的門檻也相應較低，只要具有獨創性，即該布圖設計是創作者自己的智力勞動成果，并且不是公認的常規設計即可。
通過反向工程，獲取他人的技術秘密是合法的，但通過此途徑獲取已申請布圖設計保護的方案，則構成侵權行為。因此在技術秘密難以有效保護的情況下，比如企業的內部機制難以有效防止秘密外泄，或者技術方案容易被競爭對手通過反向工程獲取等，可考慮申請布圖設計登記進行保護。
布圖設計所享有的權利，并不僅是將布圖設計作為整體進行保護，對于設計中任何一個具有獨創性的部分也進行保護，這樣，即使競爭對手對于非法獲取的整體方案進行改動，只要有些設計模塊沒有相應更改，比如一些不容易繞開的模塊，那么也構成侵權。
在鉅泉光電訴上海雅創等侵害集成電路布圖設計專有權糾紛一案中，法院認為布圖設計中的那些基本電路或者起輔助性功能的部分只要滿足獨創性以及非公認的常規設計也應受到保護。
布圖設計專有權的侵權行為成立的，權利人可要求侵權人立即停止侵權行為，并承擔賠償責任，包括權利人為制止侵權行為所支付的合理開支，比如律師費、公證費等，這在一定程度上有效地支持了權利人進行維權。
布圖設計的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準。無論是否登記或者投入商業利用，布圖設計自創作完成之日起15年后，不再受保護。
我國對集成電路布圖設計保護實行登記保護的原則，保護的起始時間為布圖設計申請日，布圖設計的商業利用時間在先，并不意味著其布圖設計專有權權利應優先受到保護。并且，登記申請需在世界任何地方首次商業利用之日起２年內提出。
企業關于申請布圖設計登記后可能泄密的擔憂是可以理解的。確實，布圖設計登記公告后，公眾可以查閱布圖設計的復制件或者圖樣，有觀點認為 這是類似于專利制度的“公開換保護”的原則，盡管該觀點存在爭議。申請布圖設計登記時，申請者需要提供布圖設計的復制件或者圖樣，可選提供的是布圖設計的電子版，如果已投入商用，則樣品也需提供。但公眾只能查閱復制件或圖樣的紙件，并不能獲取電子版，以及樣品。
企業關于申請布圖設計可能泄密的擔憂可以通過在申請登記時申明有保密信息來解決，保密信息的比例可達到整個布圖設計的50%，保密信息部分不對公眾公開。需要注意的是申請保密信息要求在申請日前該布圖設計尚未投入商業利用