ISO10110系列國際標準
ISO 10110 是一系列用于光學加工與檢驗、光學元件及系統的技術圖紙繪制及其技術要求的國際標準。 該標準始于 1979 年,由 ISO/TC172/SCI/WG2 起草,并于 1996 及 1997 年分兩部分內容正式頒布實施。ISO 10110 的基礎來自于德國標準 DIN 3140.但起草專家組成員在光干涉術、表面計量術以及激光技術等領域賦予了許多新的內容。
ISO 10110 系列標準包含多個部分,每部分針對光學元件和系統的不同方面進行了詳細規定。以下是一些主要部分的內容概述:
ISO 10110-1:概述
提供了 ISO 10110 系列標準的總體介紹和框架。
ISO 10110-2:光學材料缺陷應力雙折射
規定了光學材料中應力雙折射的允許值及其測量方法。
ISO 10110-3:光學材料缺陷氣泡與雜質
定義了光學材料中氣泡和雜質的分類、允許數量及尺寸等要求。
ISO 10110-4:光學材料缺陷非均勻性與條紋
描述了光學材料中非均勻性和條紋的評估方法及允許范圍。
ISO 10110-5:面形偏差
規定了光學元件表面形狀偏差的公差要求,包括弧矢差、不規則度、旋轉對稱不規則度等參數的測量和計算方法。
ISO 10110-6:中心偏差
定義了光學元件中心偏差的允許范圍及其測量方法,包括基準點、線量形式表達的中心誤差等。
ISO 10110-7:表面缺陷偏差
規定了光學元件表面缺陷(如劃痕、麻點、破邊等)的允許數量、尺寸及評估方法。
ISO 10110-8:表面微觀輪廓
描述了光學元件表面微觀輪廓的測量和評估方法,包括粗糙度、波紋度等參數。
ISO 10110-9:表面處理和鍍膜
規定了光學元件表面處理和鍍膜的要求,包括鍍膜材料、厚度、均勻性等方面的規定。
ISO 10110-10:元件技術要求的格式
提供了光學元件技術要求在圖紙上的表示方法和格式要求。
ISO 10110-11:非公差數據
定義了光學元件圖紙中非公差數據的表示方法和要求。
ISO 10110-12:非球面
規定了非球面光學元件的設計、制造和檢驗要求。
ISO 10110-13:激光輻射破壞閾值
定義了光學元件在激光輻射下的破壞閾值及其測量方法。
ISO 10110 系列標準為光學元件和系統的制造、檢驗及質量控制提供了全面、詳細的技術規范,對于確保光學產品的質量和性能具有重要意義。
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